Multiplate是阿托科技(ATOTECH)為發展半導體先進製程所研發的電鍍設備,在LED散熱基板製程也有成功案例,此技術也受到觸控面板及矽基太陽能基板電鍍業高度倚重。
  是針對晶圓雙面及填孔電鍍而,能同時在晶圓雙面進行填孔,並搭配專利製程技術來降低電鍍厚度(Over burden),實現晶圓薄化,節省化學機械研磨的時間及成本,適用於3D IC封裝的Interposer產品。
  ATOTECH總經理楊志海表示,該公司也成功研發化學錫在半導體的應用,並與客戶在無電化學鍍鎳等製程進行長期合作,成為IC 載板和HDI量產技術領先者。
  無電化學鍍技術是晶片堆疊過程重要的一環,也是阿托科技的經營重心。近年陸續開發鎳鈀及鎳鈀金等無電化學鍍製程,搭配單晶片製程設備(Single Wafer Tool),提升微細線路的製程能力。經封裝廠實測及認證,適用於晶片堆疊封裝使用,積極與客戶端協調量產事宜。
  ATOTECH以精密化學藥品及相關設備,成功滲透於HDI、觸控面板佈線、LED背光模組導光板等領域。在觸控面板的佈線技術,阿托科技主推銅沈積溼式佈線技術(CMD),比乾式濺鍍法具有成本優勢,配合網印,國內已有大型面板廠表示高度興趣。
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